eng
Выпуск #2/2017
М.Макушин, В.Мартынов
Микроэлектроника на современном этапе: тенденции развития и прогнозы по материалам международных форумов. Часть 1
Микроэлектроника на современном этапе: тенденции развития и прогнозы по материалам международных форумов. Часть 1
Просмотры: 2908
DOI: 10.22184/1992-4178.2017.162.2.110.118
Теги: 11/9 nm or less topological levels moore's law закон мура топологические нормы 11/9 нм и менее
На конференции ISS‑2017 был представлен широкий обзор перспектив и возможностей развития полупроводниковой отрасли, подтверждены три ранее выявленные тенденции: глобализация, изменение климата и действия Закона Мура[1]. Объем сделок слияний / поглощений в 2016 году в мировой полупроводниковой промышленности достиг 130 млрд. долл., а в Китае, где производство ИС быстро растет в том числе и за счет таких сделок, объем производства в 2020 году, по прогнозам, превысит 20% от мирового.
Определено пять областей конечного применения полупроводниковой продукции, которые будут способствовать росту продаж: Интернет вещей, автомобильная электроника, 5G (мобильные сети 5-го поколения), расширенная (augmented) и виртуальная реальность, искусственный интеллект.
Прогнозируется, что с 2016 по 2025 год объем продаж полупроводниковых приборов для Интернета вещей увеличится с 15 млрд. до 62 млрд. долл., автомобильной электроники – с 32 млрд. до 51 млрд. долл., 5G – с 0 до 20 млрд. долл., расширенной/виртуальной реальности – с 4 млрд. до 131 млрд. долл., искусственного интеллекта – с 5 млрд. до 50 млрд. долл.
Основой для значительного роста продаж в этих областях служат решения, названные "правильной технологией для правильного применения". К ним относятся плавниковые полевые транзисторы (FinFET), технология полностью обедненного кремния-на-изоляторе (FD-SOI) и правильно подобранные для конкретных применений уровни топологических норм.
ТЕНДЕНЦИИ РАЗВИТИЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ И ПРОГНОЗЫ
Объем продаж. Представители Intel отметили, что при детальном анализе инноваций, производительности и стагнации экономики выяснилось, что темпы роста производительности не дают ожидаемых преимуществ от внедрения цифровых технологий. Причины расхождения между ожидаемым и реальным эффектом их внедрения нужно изучать.
При подведении итогов 2016 года аналитическая корпорация Gartner улучшила свои оценки темпов роста доходов от продаж ИС с 0,9 до 1,5%, и объем продаж ИС в корпорации оценивается в 340 млрд. долл. Это объясняется повышением средних продажных цен (СПЦ) ИC к концу года, увеличением стоимостной составляющей полупроводниковых приборов в конечных электронных системах и обновлением товарно-материальных запасов. Что касается перспектив на 2017 год, то прогноз темпов роста продаж изменился с 5,5 до 7,7%. Среди сегментов с наибольшим темпом роста названы неоптические датчики, схемы памяти, оптоэлектроника и ИС для автомобильной электроники (за счет беспилотных транспортных средств, средств автоматизированного вождения и электрификации трансмиссии).
Представители VLSI Research оценили рост продаж оборудования для полупроводниковой промышленности в 10% (от общего объема продаж) за 2016 год (до 54 млрд. долл.) и прогнозируют 8%-ный рост в 2017 году (до 58 млрд. долл.). Спрос на оборудование достиг "дна" (самых низких показателей) в апреле 2016-го, а с июля минувшего года начал расти. Дефицит поставок ряда типов полупроводниковых приборов стимулирует спрос на оборудование в 2017 году. "Горячими точками" станут облачные вычисления, автомобильная электроника, продажа смартфонов в КНР, начало цикла замещения ПК, рост цен на ДОЗУ и флеш-память для твердотельных накопителей (SSD).
Значительное увеличение издержек производства при масштабировании технологических процессов ниже 16/14 нм приводит к тому, что только немногие крупные фирмы могут позволить себе производство ИС с топологиями менее 14 нм. В основном это интегрированные производители (IDM) – Intel, Samsung, Toshiba и т. п., а также ряд фирм-разработчиков ИС (fabless) типа Qualcomm, способных проектировать подобные ИС с дальнейшим изготовлением продукции на кремниевых заводах (foundry, контрактное производство ИС). В этих условиях все больший интерес вызывают методы 2,5D- и 3D-корпусирования, позволяющие создавать многокристальные модули и сборки из разнородных (по топологии и функциям) кристаллов ИС. Во многих применениях такой подход может оказаться рентабельнее традиционного масштабирования [1].
Переходу на пластины диаметром 450 мм большое внимание уделялось на ISS‑2017. Отмечалось, что переход на пластины большего диаметра на протяжении всей истории полупроводниковой промышленности был обусловлен прежде всего экономическими соображениями. Так, на этапе обработки 300-мм пластин было установлено, что, несмотря на удорожание технологического процесса, материалов и оборудования, удельная стоимость одной ИС ДОЗУ (по сравнению с 200-мм пластиной при условии одинаковых топологий, конструкций и емкости прибора) снижается на 25% за счет большего (в 2,5 раза) числа кристаллов ИС на пластине. А поскольку при переходе на 300-мм пластины одновременно стали возможными меньшие топологические размеры (что позволило снизить площадь кристаллов ИС), то удельная стоимость ИС уменьшилась на 40%.
Что касается 450-мм пластин, то в ближайшие пять-десять лет перехода к ним не будет, говорилось на конференции. Консорциум по 450-мм проблематике Global 450 Consortium (G450C) – совместная программа НИОКР корпораций Intel, TSMC, GlobalFoundries, IBM, Samsung и Политехнического института Университета штата Нью-Йорк – завершил первый этап работы в конце прошлого года, а начинать второй этап программы члены консорциума сочли пока нецелесообразным.
Корпорация Applied Materials – один из крупнейших в мире поставщиков полупроводникового оборудования – заявила о приостановке своей программы разработки 450-мм систем из-за снижения интереса к ним.
Представители Политехнического института Университета штата Нью-Йорк отметили, что программа G450C была призвана определить жизнеспособность перехода на 450-мм пластины с технической точки зрения. В этом отношении поставленные перед консорциумом задачи полностью выполнены. Все участники удовлетворены тем, что в случае необходимости они будут готовы к переходу на обработку пластин диаметром 450 мм.
Во время выполнения обязательной программы (Phase 1) были получены ценные результаты, включая разработку необходимых стандартов [2].
FinFET на малых топологиях. На конференциях IEDM‑2016 и ISSCC‑2017 был представлен обзор сложных проблем развития приборных структур как с технической, так и с экономической точек зрения. В настоящее время в разработке находятся нанополотна и нанопроволочные FinFET, однако расходы, связанные с их разработкой, стремительно растут. Возможным выходом из положения могут стать новые варианты в области корпусирования. Уже несколько изготовителей представили 10-нм процессы, начинается освоение 7-нм процессов, а ряд фирм приступил к НИОКР в области 5-нм процессов.
Так, недавно корпорация TSMC объявила о планах строительства (стоимостью 15,7 млрд. долл.) на Тайване нового завода по обработке пластин. Предполагается, что в 2020 и в 2022 годах, соответственно, предприятие начнет выпускать ИС на основе 5-нм и 3-нм технологических процессов. К освоению технологий менее 5 нм также планируют приступить GlobalFoundries, Intel и Samsung. Отмечается, что в области 5-нм и 3-нм процессов немало сложных проблем. Независимо от маршрутных карт развития полупроводниковых приборов, принятых поставщиками ИС, действие Закона Мура продолжает замедляться на каждом новом топологическом уровне – из-за резкого повышения сложности и дороговизны процесса.
Маршрутные карты, разумеется, могут меняться. Но пока Intel планирует освоить 10-нм процесс во второй половине 2017 года, а 7-нм процесс – в начале 2020-го. Производство ИС по 5-нм технологии Intel наметила на начало 2023 года, то есть вместо традиционных двух лет смена технологических поколений (согласно Закону Мура) будет происходить за 2,5–3 года.
Кроме того, Intel планирует расширить возможности 7-нм процесса за счет FinFET. В 2020 году и TSMC планирует начать производство 5-нм ИС на FinFET. На деле, однако, 5-нм процесс TSMC по характеристикам будет эквивалентен 7-нм процессу компании Intel.
Что касается перспектив развития маршрутных карт после 2020 года, то делать прогнозы трудно. В ближайшее время изготовители ИС намерены оценить несколько типов транзисторов следующего поколения, которые должны привести к появлению истинной или полномасштабной 5-нм технологии. (Возможно, компания TSMC заявит даже о 3-нм технологии, но с точки зрения спецификаций эта технология будет ближе к 5-нм процессу.)
Основные претенденты на полномасштабную 5-нм технологию – FinFET с новыми материалами, FET с круговыми затворами (gate-all-around, GAA), получившие название нанопластинных транзисторов. Одна из основных структур представлена на рис.1. Кроме того, другой жизнеспособный вариант – вертикальная интеграция и освоение технологий 2,5D- и 3D-корпусирования. Подходы представляются перспективными, так как несколько технических и экономических "строительных блоков" классического масштабирования ИС на уровне 5 нм сталкиваются с большими проблемами.
Аналитики корпорации Gartner считают, что 5-нм технологические процессы будут разработаны и освоены, но поточно-массовое производство начнется не раньше 2020 года. Даже если это и случится, то лишь немногие фирмы окажутся способными позволить себе их выпуск – чересчур дорого. По сравнению с поколением 16/14 нм современное 5-нм технологическое поколение будет отличаться в 2,5–3 раза бульшими производственными издержками. Помимо этого, повышение стоимости проектирования будет ограничивать использование 5-нм ИС в большинстве применений. Действительно, по оценкам Gartner, проектирование сложной системы-на-кристалле по 5-нм технологии обойдется в сумму от 500 млн. долл., что значительно больше 271 млн. долл. на проектирование 7-нм ИС. Цена по сравнению с проектированием прибора по 28-нм технологии выше более чем в девять раз.
Еще труднее прогнозировать, что случится на уровне полноразмерной 3-нм технологии, появление которой ожидается через десять лет. Некоторые специалисты считают, что затраты будут запредельными.
В то же время объем обрабатываемых и передаваемых данных растет такими темпами, что дальнейшее масштабирование ИС и повышение их производительности не может не продолжаться. В противном случае системные решения и технологические платформы не справятся с растущим трафиком. Таким образом, полупроводниковая промышленность продолжает развиваться, но придется осваивать новые технологические процессы, структуры и приборы, такие как FinFET, нанопроволоки и схемы 2,5D- и 3D-интеграции.
Разумеется, не все фирмы смогут продолжить гонку масштабирования. Многие останутся на уровне технологий 22 нм и выше. Важным обстоятельством в данном случае является рентабельность производства. В сегментах, использующих планарную технологию (топологии 20–22 нм), увеличивается число новых приложений и применений.
Продолжать масштабирование в направлении 10, 7 и 5 нм смогут немногие крупные производители ИС с большими финансовыми ресурсами. На протяжении долгих лет производители осуществляли масштабирование параметров транзисторов в рамках каждого поколения. На очередном этапе фактор масштабирования составлял примерно 0,7Ч, что в результате обеспечивало удвоение плотности расположения транзисторов. При этом в рамках очередного поколения производительность повышалась в среднем на 20%, или на 40% снижалась потребляемая мощность при сохранении той же рабочей частоты.
Intel следовала традиционному масштабированию до уровня 14-нм топологии. TSMC и ряд других фирм уже на 16-нм топологиях стали использовать FinFET. Однако ряд спецификаций, таких как полушаг поликремниевых контактов (CPP) и полушаг металлической разводки, напоминал параметры 20-нм технологии. СРР – один из ключевых параметров транзистора – определяет расстояние между контактом истока, затвором и контактом стока.
Существуют две спецификации для почти одних и тех же технологических поколений. Если Intel предпочитает полный набор спецификаций, то TSMC склоняется к сокращенному. Фирмы намерены и впредь придерживаться выбранных подходов, что создает все большую неразбериху на рынке. Кроме того, Intel, Samsung и TSMC находятся на разных этапах освоения 10-нм процессов. Когда в 2017 году TSMC начнет опытное производство 7-нм схем, они по характеристикам (плотности размещения элементов и производительности) будут схожи с 10-нм ИС компании Intel.
С учетом этих тенденций 5-нм ИС TSMC будут напоминать 7-нм ИС Intel, а 3-нм схемы – 5-нм продукцию конкурента. Однако такая путаница в размерах – вопрос второстепенный, поскольку меркнет на фоне технических и экономических трудностей освоения 5-нм и меньших технологий.
Например, 14-нм процесс Intel характеризуется СРР = 70 нм и шагом элементов в 52 нм. По данным Национального университета Сингапура, СРР полномерной 5-нм технологии будет иметь значения от 32 нм до 42 нм, а шаг металлической разводки составит 24 нм. На топологиях 3 нм CHH будет равен 20 нм, а шаг металлической разводки – 18 нм.
Перспективы развития FinFET. Для достижения подобных размеров изготовители ИС будут вынуждены добиваться новых серьезных прорывов в технологических процессах на заводах по обработке пластин. На топологиях 7 нм и/или 5 нм, например, возможно, придется освоить EUV[2]-литографию, чтобы упростить процесс формирования рисунка. Кроме того, производителям ИС потребуется разрабатывать новые методы формирования межсоединений и тонких схем разводки в приборах. И это лишь верхушка айсберга.
В результате расходы на производство 5-нм ИС и ИС с меньшими топологиями станут астрономическими. Выход – ускорение процесса масштабирования для снижения издержек производства, увеличение плотности размещения транзисторов на единицу площади.
Существует несколько способов размещения большего числа транзисторов в современных ИС, которые могут позволить продлить использование FinFET на топологии 7 нм и, возможно, на 5 нм.
Рассмотрим их подробнее. Изготовленные по технологиям 22-нм и 16 / 14-нм FinFET отличаются от стандартных планарных приборов. В FinFET управление током осуществляется затвором, расположенным на трех сторонах плавника (fin). Чтобы можно было применять FinFET на меньших топологиях, необходимо:
• уменьшить число плавников на транзисторе;
• сделать оставшиеся плавники выше;
• добавить в схему материалы с низкой диэлектрической проницаемостью и воздушные спейсеры;
• использовать новые материалы для формирования канала транзистора.
Один из способов продлить использование FinFET – реинжиниринг. Сегодня 14-нм FinFET может состоять из стандартных 9Т-ячеек (9-трековых ячеек) с общим числом плавников до четырех на одном и том же транзисторе. Высота каждого плавника до 50 нм. При масштабировании до 7 нм производители ИС могут снизить размер ячейки с девяти до шести треков. Соответственно, количество плавников на транзисторе уменьшается с четырех до двух, а высота увеличивается до 65–70 нм. На топологиях 5 нм размер ячейки уже не шесть, а пять треков. Она может иметь только один плавник высотой 90–100 нм. По мере снижения размера ячейки увеличивается высота плавника, которая становится достаточной для обеспечения приемлемого тока возбуждения.
Пятитрековая ячейка с одним плавником позволяет добиться СРР = 42 нм и шага металлизации 32 нм. Этим достигается 16%-ное уменьшение площади без масштабирования шага и 34%-ный выигрыш по энергии для 6T-ячеек.
Однако более высокие плавники могут стать паразитной емкостью, которая повлияет на производительность. Снижения емкости можно добиться введением в FinFET-схему спейсеров с малой диэлектрической проницаемостью. Согласно другому подходу, компании IBM и GlobalFoundries вводят частичные воздушные зазоры, которые могут располагаться между затворами и модулем силицидной металлизации в FinFET. Экспериментально доказано, что частичный воздушный спейсер снижает значение Cgs (емкость затвор – исток) на 15–20% и эффективную емкость на 10–15% при 10-нм основных размерах.
Технология FD-SOI на малых топологиях. Еще одна серьезная проблема заключается в том, что кремний, традиционно служивший материалом для канала транзистора, не обеспечивает удовлетворительной подвижности носителей заряда. В качестве решения проблемы корпорация Samsung недавно продемонстрировала 5-нм FinFET на напряженном кремнии (SiGe) для p-канальных FET и растянутом кремнии для n-канальных FET.
SiGe буферный слой (с ослабленным напряжением) вводится как заглубленный стрессор. В результате напряженный кремний и напряженный SiGe повышают подвижность электронов на 40%, а дырок – на 10% по сравнению с ненапряженным кремнием.
Таким образом, теоретически использование FinFET-технологии может быть продлено до 5-нм топологических норм. Однако по-прежнему остается ряд проблем. Одна из них – необходимость поддерживать крутизну подпорогового напряжения на уровне менее 70 мВ на десятичный разряд. Эту сложную задачу еще предстоит решить.
Нанопроволоки. Предполагается, что основная проблема, с которой столкнется полупроводниковая промышленность при переходе к 7-нм технологиям, – снижение контактного сопротивления. На этих топологиях время задержки распространения сигнала, обусловленное паразитными сопротивлением и емкостью, как ожидается, будет значительно превышать задержку, присущую собственно транзистору. Проблему можно решить путем применения:
• новых материалов, таких как кобальт, для заполнения контактов;
• спейсеров с пониженной диэлектрической проницаемостью (low-k);
• интегрированных решений (схемы воздушного зазора и замещения контакта).
Многие специалисты считают, что хотя FinFET, как ожидается, будут масштабироваться до 7-нм топологий, их дни сочтены. Если масштабировать до 7-нм технологий с историческим 0,7Ч-фактором, то с FinFET возникают проблемы, так как масштабировать нужно не только длину затвора, но ширину плавника. А изменение параметров сформированных 5-нм плавников из-за квантовых ограничений вызовет большие проблемы с производительностью. Для запуска масштабирования приборов следующего поколения потребуются новые подходы, например приборы с круговым затвором (gate-all-around, GAA).
Здесь возникает еще одна проблема: достижение 7-нм топологического уровня потребует очень продвинутой fin-технологии в сочетании с перспективными решениями по формированию рисунка. Что касается перехода к 5-нм топологиям, то ожидается, что плавник по-прежнему будет эталонной технологией наряду с введением новых материалов (SiGe) и высокой концентрацией Ge в каналах для повышения подвижности носителей заряда. Кроме того, возможно применение материалов типа АIIIВV (особенно на 5-нм уровне).
Заглядывая вперед, отметим, что специалисты компаний полупроводниковой промышленности рассматривают альтернативу плавникам, так как есть инженерные ограничения по величине изготовления структур с минимальными размерами. Существует вероятность, что на 5-нм топологическом уровне на смену традиционным плавникам придут другие структуры, например GAA (известная также как боковой или горизонтальный нанопровод, HGAA), обладающая улучшенными параметрами с точки зрения управления затвором и током утечки. Это означает возможность достижения большей производительности при меньших напряжении питания и пороговом напряжении.
После освоения HGAA-структур отрасль может пойти по пути применения структур на вертикальных нанопроводах (VGAA), но у них есть несколько конкурирующих структур (рис.2). Так что у производителей появится выбор.
Как только ширина плавника приближается или становится меньше 5 нм, сильнее проявляются квантовые эффекты. По мере того как плавник становится тоньше, увеличивается ширина запрещенной энергетической зоны, пороговое напряжение повышается, что может привести к выходу прибора из строя. Поэтому промышленность рассматривает несколько вариантов транзисторных архитектур следующего поколения для полномасштабной 5-нм технологии (как уже говорилось, TSMC заявляет о 3-нм технологии, хотя разрабатываемый процесс ближе к 5-нм технологии).
В настоящее время горизонтальные FET с круговым затвором и нанолистовые FET активно используются при освоении 5-нм технологии. Другие подходы, такие как FinFET на материалах групп АIIIBV, туннельные FET и вертикальные нанопроволоки, сегодня нереализуемы.
FET с круговым затвором (GAA), иногда называемые горизонтальными нанопроводными FET, – это дальнейшее развитие FinFET. В случае кругового затвора плавник делается выше, чтобы его можно было разделить на три или более нанопровода [3].
Межуниверситетский центр микроэлектроники IMEC (Лёвен, Бельгия) недавно демонстрировал полевые транзисторы с круговым затвором на основе вертикально этажированных нанопроводов диаметром 8 нм, служащих каналами. А затвор окружает их с четырех сторон (рис.3) [4].
В структуре с окружающим затвором наблюдается некоторое улучшение управления электростатикой, что позволяет сделать шаг дальнейшего масштабирования. Также обеспечивается небольшое повышение производительности по сравнению с FinFET. Но несколько проблем остается: ток возбуждения и паразитная емкость. Плавник в FinFET имел достаточную площадь поверхности, которая обеспечивала неплохой ток возбуждения. В случае с круговым затвором разработчики имеют дело с нанопроводами. Площадь их поверхности меньше, соответственно, ток возбуждения на единицу площади недостаточен. Но важнее то, что паразитные явления становятся слишком значимыми относительно проводящей поверхности.
Таким образом, паразитная емкость на уровне 5-нм топологий – серьезная проблема. Емкость создает внешнее сопротивление в различных частях прибора: переходе, силицидном барьере Шоттки, модуле контакт / сквозное межсоединение нулевого уровня / первый слой металлизации. При этом на высоту барьера Шоттки может приходиться до 32% деградации тока возбуждения [3].
Для уменьшения паразитной емкости специалисты Leti[3] и другие разработчики предложили идею введения в круговой затвор спейсеров с низкой диэлектрической проницаемостью. А для повышения производительности в p-канальном FET предусмотрено соединение SiGe (рис.4) [5].
Достаточно ли этого? Основное и самое общее по круговым затворам опасение заключается в том, что нанопровода – будь они вертикально или горизонтально ориентированы – не совсем подходят для реальных технологий.
Недавно специалисты IBM Research (Цюрих, Швейцария) предложили более приемлемое, с их точки зрения, решение – этажированный нанолистовой FET (находящийся на стадии НИОКР). В нанолистовом FET, напоминающем горизонтальный нанопроводной FET, провода намного шире и толще. По сути, листы – просто провода с разным аспектным отношением. Благодаря этому нанолистовые FET обеспечивают лучшие электростатику и ток возбуждения.
FET с круговым затвором и нанолистовые FET перспективны, но на их пути от НИОКР в лабораторных условиях до реального производства все еще много препятствий. Так, технология нанопроводов может быть доведена до 3 нм, но вопрос в степени вариабельности и технологичности (т. е. пригодности в производстве) таких структур.
Фирма Silicon Catalyst представила прогноз относительно сроков возможного продления применения кремния в полупроводниковой промышленности (до поколения N+5 – 2 нм), а также развития периодов после КМОП (рис.5). Финансируемая венчурным капиталом фирма предоставляет стартапам услуги по обучению и повышению квалификации специалистов, аренде рабочих площадей, бизнес- и проводные услуги. По оценкам сотрудников Silicon Catalyst, при достижении уровня менее 5 нм настанет время прорывных технологий, предусматривающих вертикальное многослойное построение конструкций и использование новых материалов.
Одна из перспективных технологий микроэлектроники – полностью обедненный кремний (FD-SOI). Однако у специалистов отрасли сложилось мнение, что данный технологический процесс может эффективно действовать до топологий 14 нм, а на 7 нм и менее окажется нефункциональным.
CEA-Leti представил свою маршрутную карту развития полупроводниковых приборов до топологий 5 нм и менее (рис.6). В ней учтены наработки CEA-Leti по технологии FD-SOI и собственной технологии монолитной 3D интеграции Coolcube.
Вертикальные структуры. Если промышленности не удастся решить проблемы дальнейшего масштабирования, придется воспользоваться другими вариантами. Вместо традиционного масштабирования отрасль может пойти по пути использования вертикальной интеграции. Уже предлагается ряд 2,5D-, 3D-подходов. Некоторое время опробовались подходы 2,5D-этажирования кристаллов с использованием интерпозеров[4] и TSV[5]-подхода. Наряду с этим Intel развивал технологию встраиваемых многокристальных мостовых межсоединений (EMIB). В EMIB модуль может состоять из различных кристаллов. Подключение кристаллов друг к другу в модуле будет осуществляться тонкими кремниевыми проводами, расположенными на их границах.
Помимо этого существует много других подходов. Например, Leti работает над монолитной 3D-технологией, когда транзисторы этажируются один над другим последовательно. Межсоединение слоев осуществляется за счет тонких межслойных переходов. Проблема только в том, что все слои должны обрабатываться с минимальным тепловым воздействием. Находящаяся на стадии НИОКР монолитная 3D-интеграция – также перспективный подход. Предполагается, что она актуальна для гетерогенной интеграции различных функций – аналоговые функциональные блоки накладываются на цифровые с очень высокой плотностью межсоединений.
Leti и другие исследовательские учреждения изучают перспективы чиплетов – дискретных компонентов системы-на-кристалле. Они разработаны в качестве отдельных блоков для включения в многокристальный модуль, поэтому не требуют размещения на одном кристалле. Чиплеты обеспечивают значительную гибкость при выборе необходимой интеллектуальной собственности (СФ-блоков). То есть у разработчиков больше вариантов с функциональным разбиением.
Какие транзисторы и / или 2,5D-, 3D-технологии будут доминировать на уровне топологий 5 нм и менее, покажет время [3].
Во второй части статьи рассмотрим результаты поиска новых приборных структур и материалов, пригодных для 5 / 7-нм технологий, уделим внимание перспективной технологии магниторезистивной памяти, EUV-литографии с высокой числовой апертурой и новым материалам.
ЛИТЕРАТУРА
1. SEMI ISS2017 uncovers new growth, forecast upgrades. Solid State Technology. The Pulse, January 10. 2017.
2. McGrath D. No Sign of 450 mm on the Horizon // EE Times. 1/13/2017.
3. Happich J. Uncertainty Grows For 5 nm, 3 nm // EE Times. 12/7/2016.
4. Happich J. Imec Stacks Gate-all-Around Si Nanowires Vertically in CMOS MOSFETs // EE Times. 12/7/2016.
5. Happich J. Leti’s 5nm Node to Stack Si Nanowires // EE Times.12/7/2016.
6. Lammers D. MRAM Takes Center Stage at IEDM 2016 // Solid State Technology. The Pulse. December 14. 2016.
7. Korczynski E. High-NA EUV Lithography Investment // Solid State Technology. The Pulse. December 5. 2016.
8. Physicists decipher electronic properties of materials in work that may change transistors // Solid State Technology. Wafer News. December 05.2012.
Определено пять областей конечного применения полупроводниковой продукции, которые будут способствовать росту продаж: Интернет вещей, автомобильная электроника, 5G (мобильные сети 5-го поколения), расширенная (augmented) и виртуальная реальность, искусственный интеллект.
Прогнозируется, что с 2016 по 2025 год объем продаж полупроводниковых приборов для Интернета вещей увеличится с 15 млрд. до 62 млрд. долл., автомобильной электроники – с 32 млрд. до 51 млрд. долл., 5G – с 0 до 20 млрд. долл., расширенной/виртуальной реальности – с 4 млрд. до 131 млрд. долл., искусственного интеллекта – с 5 млрд. до 50 млрд. долл.
Основой для значительного роста продаж в этих областях служат решения, названные "правильной технологией для правильного применения". К ним относятся плавниковые полевые транзисторы (FinFET), технология полностью обедненного кремния-на-изоляторе (FD-SOI) и правильно подобранные для конкретных применений уровни топологических норм.
ТЕНДЕНЦИИ РАЗВИТИЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ И ПРОГНОЗЫ
Объем продаж. Представители Intel отметили, что при детальном анализе инноваций, производительности и стагнации экономики выяснилось, что темпы роста производительности не дают ожидаемых преимуществ от внедрения цифровых технологий. Причины расхождения между ожидаемым и реальным эффектом их внедрения нужно изучать.
При подведении итогов 2016 года аналитическая корпорация Gartner улучшила свои оценки темпов роста доходов от продаж ИС с 0,9 до 1,5%, и объем продаж ИС в корпорации оценивается в 340 млрд. долл. Это объясняется повышением средних продажных цен (СПЦ) ИC к концу года, увеличением стоимостной составляющей полупроводниковых приборов в конечных электронных системах и обновлением товарно-материальных запасов. Что касается перспектив на 2017 год, то прогноз темпов роста продаж изменился с 5,5 до 7,7%. Среди сегментов с наибольшим темпом роста названы неоптические датчики, схемы памяти, оптоэлектроника и ИС для автомобильной электроники (за счет беспилотных транспортных средств, средств автоматизированного вождения и электрификации трансмиссии).
Представители VLSI Research оценили рост продаж оборудования для полупроводниковой промышленности в 10% (от общего объема продаж) за 2016 год (до 54 млрд. долл.) и прогнозируют 8%-ный рост в 2017 году (до 58 млрд. долл.). Спрос на оборудование достиг "дна" (самых низких показателей) в апреле 2016-го, а с июля минувшего года начал расти. Дефицит поставок ряда типов полупроводниковых приборов стимулирует спрос на оборудование в 2017 году. "Горячими точками" станут облачные вычисления, автомобильная электроника, продажа смартфонов в КНР, начало цикла замещения ПК, рост цен на ДОЗУ и флеш-память для твердотельных накопителей (SSD).
Значительное увеличение издержек производства при масштабировании технологических процессов ниже 16/14 нм приводит к тому, что только немногие крупные фирмы могут позволить себе производство ИС с топологиями менее 14 нм. В основном это интегрированные производители (IDM) – Intel, Samsung, Toshiba и т. п., а также ряд фирм-разработчиков ИС (fabless) типа Qualcomm, способных проектировать подобные ИС с дальнейшим изготовлением продукции на кремниевых заводах (foundry, контрактное производство ИС). В этих условиях все больший интерес вызывают методы 2,5D- и 3D-корпусирования, позволяющие создавать многокристальные модули и сборки из разнородных (по топологии и функциям) кристаллов ИС. Во многих применениях такой подход может оказаться рентабельнее традиционного масштабирования [1].
Переходу на пластины диаметром 450 мм большое внимание уделялось на ISS‑2017. Отмечалось, что переход на пластины большего диаметра на протяжении всей истории полупроводниковой промышленности был обусловлен прежде всего экономическими соображениями. Так, на этапе обработки 300-мм пластин было установлено, что, несмотря на удорожание технологического процесса, материалов и оборудования, удельная стоимость одной ИС ДОЗУ (по сравнению с 200-мм пластиной при условии одинаковых топологий, конструкций и емкости прибора) снижается на 25% за счет большего (в 2,5 раза) числа кристаллов ИС на пластине. А поскольку при переходе на 300-мм пластины одновременно стали возможными меньшие топологические размеры (что позволило снизить площадь кристаллов ИС), то удельная стоимость ИС уменьшилась на 40%.
Что касается 450-мм пластин, то в ближайшие пять-десять лет перехода к ним не будет, говорилось на конференции. Консорциум по 450-мм проблематике Global 450 Consortium (G450C) – совместная программа НИОКР корпораций Intel, TSMC, GlobalFoundries, IBM, Samsung и Политехнического института Университета штата Нью-Йорк – завершил первый этап работы в конце прошлого года, а начинать второй этап программы члены консорциума сочли пока нецелесообразным.
Корпорация Applied Materials – один из крупнейших в мире поставщиков полупроводникового оборудования – заявила о приостановке своей программы разработки 450-мм систем из-за снижения интереса к ним.
Представители Политехнического института Университета штата Нью-Йорк отметили, что программа G450C была призвана определить жизнеспособность перехода на 450-мм пластины с технической точки зрения. В этом отношении поставленные перед консорциумом задачи полностью выполнены. Все участники удовлетворены тем, что в случае необходимости они будут готовы к переходу на обработку пластин диаметром 450 мм.
Во время выполнения обязательной программы (Phase 1) были получены ценные результаты, включая разработку необходимых стандартов [2].
FinFET на малых топологиях. На конференциях IEDM‑2016 и ISSCC‑2017 был представлен обзор сложных проблем развития приборных структур как с технической, так и с экономической точек зрения. В настоящее время в разработке находятся нанополотна и нанопроволочные FinFET, однако расходы, связанные с их разработкой, стремительно растут. Возможным выходом из положения могут стать новые варианты в области корпусирования. Уже несколько изготовителей представили 10-нм процессы, начинается освоение 7-нм процессов, а ряд фирм приступил к НИОКР в области 5-нм процессов.
Так, недавно корпорация TSMC объявила о планах строительства (стоимостью 15,7 млрд. долл.) на Тайване нового завода по обработке пластин. Предполагается, что в 2020 и в 2022 годах, соответственно, предприятие начнет выпускать ИС на основе 5-нм и 3-нм технологических процессов. К освоению технологий менее 5 нм также планируют приступить GlobalFoundries, Intel и Samsung. Отмечается, что в области 5-нм и 3-нм процессов немало сложных проблем. Независимо от маршрутных карт развития полупроводниковых приборов, принятых поставщиками ИС, действие Закона Мура продолжает замедляться на каждом новом топологическом уровне – из-за резкого повышения сложности и дороговизны процесса.
Маршрутные карты, разумеется, могут меняться. Но пока Intel планирует освоить 10-нм процесс во второй половине 2017 года, а 7-нм процесс – в начале 2020-го. Производство ИС по 5-нм технологии Intel наметила на начало 2023 года, то есть вместо традиционных двух лет смена технологических поколений (согласно Закону Мура) будет происходить за 2,5–3 года.
Кроме того, Intel планирует расширить возможности 7-нм процесса за счет FinFET. В 2020 году и TSMC планирует начать производство 5-нм ИС на FinFET. На деле, однако, 5-нм процесс TSMC по характеристикам будет эквивалентен 7-нм процессу компании Intel.
Что касается перспектив развития маршрутных карт после 2020 года, то делать прогнозы трудно. В ближайшее время изготовители ИС намерены оценить несколько типов транзисторов следующего поколения, которые должны привести к появлению истинной или полномасштабной 5-нм технологии. (Возможно, компания TSMC заявит даже о 3-нм технологии, но с точки зрения спецификаций эта технология будет ближе к 5-нм процессу.)
Основные претенденты на полномасштабную 5-нм технологию – FinFET с новыми материалами, FET с круговыми затворами (gate-all-around, GAA), получившие название нанопластинных транзисторов. Одна из основных структур представлена на рис.1. Кроме того, другой жизнеспособный вариант – вертикальная интеграция и освоение технологий 2,5D- и 3D-корпусирования. Подходы представляются перспективными, так как несколько технических и экономических "строительных блоков" классического масштабирования ИС на уровне 5 нм сталкиваются с большими проблемами.
Аналитики корпорации Gartner считают, что 5-нм технологические процессы будут разработаны и освоены, но поточно-массовое производство начнется не раньше 2020 года. Даже если это и случится, то лишь немногие фирмы окажутся способными позволить себе их выпуск – чересчур дорого. По сравнению с поколением 16/14 нм современное 5-нм технологическое поколение будет отличаться в 2,5–3 раза бульшими производственными издержками. Помимо этого, повышение стоимости проектирования будет ограничивать использование 5-нм ИС в большинстве применений. Действительно, по оценкам Gartner, проектирование сложной системы-на-кристалле по 5-нм технологии обойдется в сумму от 500 млн. долл., что значительно больше 271 млн. долл. на проектирование 7-нм ИС. Цена по сравнению с проектированием прибора по 28-нм технологии выше более чем в девять раз.
Еще труднее прогнозировать, что случится на уровне полноразмерной 3-нм технологии, появление которой ожидается через десять лет. Некоторые специалисты считают, что затраты будут запредельными.
В то же время объем обрабатываемых и передаваемых данных растет такими темпами, что дальнейшее масштабирование ИС и повышение их производительности не может не продолжаться. В противном случае системные решения и технологические платформы не справятся с растущим трафиком. Таким образом, полупроводниковая промышленность продолжает развиваться, но придется осваивать новые технологические процессы, структуры и приборы, такие как FinFET, нанопроволоки и схемы 2,5D- и 3D-интеграции.
Разумеется, не все фирмы смогут продолжить гонку масштабирования. Многие останутся на уровне технологий 22 нм и выше. Важным обстоятельством в данном случае является рентабельность производства. В сегментах, использующих планарную технологию (топологии 20–22 нм), увеличивается число новых приложений и применений.
Продолжать масштабирование в направлении 10, 7 и 5 нм смогут немногие крупные производители ИС с большими финансовыми ресурсами. На протяжении долгих лет производители осуществляли масштабирование параметров транзисторов в рамках каждого поколения. На очередном этапе фактор масштабирования составлял примерно 0,7Ч, что в результате обеспечивало удвоение плотности расположения транзисторов. При этом в рамках очередного поколения производительность повышалась в среднем на 20%, или на 40% снижалась потребляемая мощность при сохранении той же рабочей частоты.
Intel следовала традиционному масштабированию до уровня 14-нм топологии. TSMC и ряд других фирм уже на 16-нм топологиях стали использовать FinFET. Однако ряд спецификаций, таких как полушаг поликремниевых контактов (CPP) и полушаг металлической разводки, напоминал параметры 20-нм технологии. СРР – один из ключевых параметров транзистора – определяет расстояние между контактом истока, затвором и контактом стока.
Существуют две спецификации для почти одних и тех же технологических поколений. Если Intel предпочитает полный набор спецификаций, то TSMC склоняется к сокращенному. Фирмы намерены и впредь придерживаться выбранных подходов, что создает все большую неразбериху на рынке. Кроме того, Intel, Samsung и TSMC находятся на разных этапах освоения 10-нм процессов. Когда в 2017 году TSMC начнет опытное производство 7-нм схем, они по характеристикам (плотности размещения элементов и производительности) будут схожи с 10-нм ИС компании Intel.
С учетом этих тенденций 5-нм ИС TSMC будут напоминать 7-нм ИС Intel, а 3-нм схемы – 5-нм продукцию конкурента. Однако такая путаница в размерах – вопрос второстепенный, поскольку меркнет на фоне технических и экономических трудностей освоения 5-нм и меньших технологий.
Например, 14-нм процесс Intel характеризуется СРР = 70 нм и шагом элементов в 52 нм. По данным Национального университета Сингапура, СРР полномерной 5-нм технологии будет иметь значения от 32 нм до 42 нм, а шаг металлической разводки составит 24 нм. На топологиях 3 нм CHH будет равен 20 нм, а шаг металлической разводки – 18 нм.
Перспективы развития FinFET. Для достижения подобных размеров изготовители ИС будут вынуждены добиваться новых серьезных прорывов в технологических процессах на заводах по обработке пластин. На топологиях 7 нм и/или 5 нм, например, возможно, придется освоить EUV[2]-литографию, чтобы упростить процесс формирования рисунка. Кроме того, производителям ИС потребуется разрабатывать новые методы формирования межсоединений и тонких схем разводки в приборах. И это лишь верхушка айсберга.
В результате расходы на производство 5-нм ИС и ИС с меньшими топологиями станут астрономическими. Выход – ускорение процесса масштабирования для снижения издержек производства, увеличение плотности размещения транзисторов на единицу площади.
Существует несколько способов размещения большего числа транзисторов в современных ИС, которые могут позволить продлить использование FinFET на топологии 7 нм и, возможно, на 5 нм.
Рассмотрим их подробнее. Изготовленные по технологиям 22-нм и 16 / 14-нм FinFET отличаются от стандартных планарных приборов. В FinFET управление током осуществляется затвором, расположенным на трех сторонах плавника (fin). Чтобы можно было применять FinFET на меньших топологиях, необходимо:
• уменьшить число плавников на транзисторе;
• сделать оставшиеся плавники выше;
• добавить в схему материалы с низкой диэлектрической проницаемостью и воздушные спейсеры;
• использовать новые материалы для формирования канала транзистора.
Один из способов продлить использование FinFET – реинжиниринг. Сегодня 14-нм FinFET может состоять из стандартных 9Т-ячеек (9-трековых ячеек) с общим числом плавников до четырех на одном и том же транзисторе. Высота каждого плавника до 50 нм. При масштабировании до 7 нм производители ИС могут снизить размер ячейки с девяти до шести треков. Соответственно, количество плавников на транзисторе уменьшается с четырех до двух, а высота увеличивается до 65–70 нм. На топологиях 5 нм размер ячейки уже не шесть, а пять треков. Она может иметь только один плавник высотой 90–100 нм. По мере снижения размера ячейки увеличивается высота плавника, которая становится достаточной для обеспечения приемлемого тока возбуждения.
Пятитрековая ячейка с одним плавником позволяет добиться СРР = 42 нм и шага металлизации 32 нм. Этим достигается 16%-ное уменьшение площади без масштабирования шага и 34%-ный выигрыш по энергии для 6T-ячеек.
Однако более высокие плавники могут стать паразитной емкостью, которая повлияет на производительность. Снижения емкости можно добиться введением в FinFET-схему спейсеров с малой диэлектрической проницаемостью. Согласно другому подходу, компании IBM и GlobalFoundries вводят частичные воздушные зазоры, которые могут располагаться между затворами и модулем силицидной металлизации в FinFET. Экспериментально доказано, что частичный воздушный спейсер снижает значение Cgs (емкость затвор – исток) на 15–20% и эффективную емкость на 10–15% при 10-нм основных размерах.
Технология FD-SOI на малых топологиях. Еще одна серьезная проблема заключается в том, что кремний, традиционно служивший материалом для канала транзистора, не обеспечивает удовлетворительной подвижности носителей заряда. В качестве решения проблемы корпорация Samsung недавно продемонстрировала 5-нм FinFET на напряженном кремнии (SiGe) для p-канальных FET и растянутом кремнии для n-канальных FET.
SiGe буферный слой (с ослабленным напряжением) вводится как заглубленный стрессор. В результате напряженный кремний и напряженный SiGe повышают подвижность электронов на 40%, а дырок – на 10% по сравнению с ненапряженным кремнием.
Таким образом, теоретически использование FinFET-технологии может быть продлено до 5-нм топологических норм. Однако по-прежнему остается ряд проблем. Одна из них – необходимость поддерживать крутизну подпорогового напряжения на уровне менее 70 мВ на десятичный разряд. Эту сложную задачу еще предстоит решить.
Нанопроволоки. Предполагается, что основная проблема, с которой столкнется полупроводниковая промышленность при переходе к 7-нм технологиям, – снижение контактного сопротивления. На этих топологиях время задержки распространения сигнала, обусловленное паразитными сопротивлением и емкостью, как ожидается, будет значительно превышать задержку, присущую собственно транзистору. Проблему можно решить путем применения:
• новых материалов, таких как кобальт, для заполнения контактов;
• спейсеров с пониженной диэлектрической проницаемостью (low-k);
• интегрированных решений (схемы воздушного зазора и замещения контакта).
Многие специалисты считают, что хотя FinFET, как ожидается, будут масштабироваться до 7-нм топологий, их дни сочтены. Если масштабировать до 7-нм технологий с историческим 0,7Ч-фактором, то с FinFET возникают проблемы, так как масштабировать нужно не только длину затвора, но ширину плавника. А изменение параметров сформированных 5-нм плавников из-за квантовых ограничений вызовет большие проблемы с производительностью. Для запуска масштабирования приборов следующего поколения потребуются новые подходы, например приборы с круговым затвором (gate-all-around, GAA).
Здесь возникает еще одна проблема: достижение 7-нм топологического уровня потребует очень продвинутой fin-технологии в сочетании с перспективными решениями по формированию рисунка. Что касается перехода к 5-нм топологиям, то ожидается, что плавник по-прежнему будет эталонной технологией наряду с введением новых материалов (SiGe) и высокой концентрацией Ge в каналах для повышения подвижности носителей заряда. Кроме того, возможно применение материалов типа АIIIВV (особенно на 5-нм уровне).
Заглядывая вперед, отметим, что специалисты компаний полупроводниковой промышленности рассматривают альтернативу плавникам, так как есть инженерные ограничения по величине изготовления структур с минимальными размерами. Существует вероятность, что на 5-нм топологическом уровне на смену традиционным плавникам придут другие структуры, например GAA (известная также как боковой или горизонтальный нанопровод, HGAA), обладающая улучшенными параметрами с точки зрения управления затвором и током утечки. Это означает возможность достижения большей производительности при меньших напряжении питания и пороговом напряжении.
После освоения HGAA-структур отрасль может пойти по пути применения структур на вертикальных нанопроводах (VGAA), но у них есть несколько конкурирующих структур (рис.2). Так что у производителей появится выбор.
Как только ширина плавника приближается или становится меньше 5 нм, сильнее проявляются квантовые эффекты. По мере того как плавник становится тоньше, увеличивается ширина запрещенной энергетической зоны, пороговое напряжение повышается, что может привести к выходу прибора из строя. Поэтому промышленность рассматривает несколько вариантов транзисторных архитектур следующего поколения для полномасштабной 5-нм технологии (как уже говорилось, TSMC заявляет о 3-нм технологии, хотя разрабатываемый процесс ближе к 5-нм технологии).
В настоящее время горизонтальные FET с круговым затвором и нанолистовые FET активно используются при освоении 5-нм технологии. Другие подходы, такие как FinFET на материалах групп АIIIBV, туннельные FET и вертикальные нанопроволоки, сегодня нереализуемы.
FET с круговым затвором (GAA), иногда называемые горизонтальными нанопроводными FET, – это дальнейшее развитие FinFET. В случае кругового затвора плавник делается выше, чтобы его можно было разделить на три или более нанопровода [3].
Межуниверситетский центр микроэлектроники IMEC (Лёвен, Бельгия) недавно демонстрировал полевые транзисторы с круговым затвором на основе вертикально этажированных нанопроводов диаметром 8 нм, служащих каналами. А затвор окружает их с четырех сторон (рис.3) [4].
В структуре с окружающим затвором наблюдается некоторое улучшение управления электростатикой, что позволяет сделать шаг дальнейшего масштабирования. Также обеспечивается небольшое повышение производительности по сравнению с FinFET. Но несколько проблем остается: ток возбуждения и паразитная емкость. Плавник в FinFET имел достаточную площадь поверхности, которая обеспечивала неплохой ток возбуждения. В случае с круговым затвором разработчики имеют дело с нанопроводами. Площадь их поверхности меньше, соответственно, ток возбуждения на единицу площади недостаточен. Но важнее то, что паразитные явления становятся слишком значимыми относительно проводящей поверхности.
Таким образом, паразитная емкость на уровне 5-нм топологий – серьезная проблема. Емкость создает внешнее сопротивление в различных частях прибора: переходе, силицидном барьере Шоттки, модуле контакт / сквозное межсоединение нулевого уровня / первый слой металлизации. При этом на высоту барьера Шоттки может приходиться до 32% деградации тока возбуждения [3].
Для уменьшения паразитной емкости специалисты Leti[3] и другие разработчики предложили идею введения в круговой затвор спейсеров с низкой диэлектрической проницаемостью. А для повышения производительности в p-канальном FET предусмотрено соединение SiGe (рис.4) [5].
Достаточно ли этого? Основное и самое общее по круговым затворам опасение заключается в том, что нанопровода – будь они вертикально или горизонтально ориентированы – не совсем подходят для реальных технологий.
Недавно специалисты IBM Research (Цюрих, Швейцария) предложили более приемлемое, с их точки зрения, решение – этажированный нанолистовой FET (находящийся на стадии НИОКР). В нанолистовом FET, напоминающем горизонтальный нанопроводной FET, провода намного шире и толще. По сути, листы – просто провода с разным аспектным отношением. Благодаря этому нанолистовые FET обеспечивают лучшие электростатику и ток возбуждения.
FET с круговым затвором и нанолистовые FET перспективны, но на их пути от НИОКР в лабораторных условиях до реального производства все еще много препятствий. Так, технология нанопроводов может быть доведена до 3 нм, но вопрос в степени вариабельности и технологичности (т. е. пригодности в производстве) таких структур.
Фирма Silicon Catalyst представила прогноз относительно сроков возможного продления применения кремния в полупроводниковой промышленности (до поколения N+5 – 2 нм), а также развития периодов после КМОП (рис.5). Финансируемая венчурным капиталом фирма предоставляет стартапам услуги по обучению и повышению квалификации специалистов, аренде рабочих площадей, бизнес- и проводные услуги. По оценкам сотрудников Silicon Catalyst, при достижении уровня менее 5 нм настанет время прорывных технологий, предусматривающих вертикальное многослойное построение конструкций и использование новых материалов.
Одна из перспективных технологий микроэлектроники – полностью обедненный кремний (FD-SOI). Однако у специалистов отрасли сложилось мнение, что данный технологический процесс может эффективно действовать до топологий 14 нм, а на 7 нм и менее окажется нефункциональным.
CEA-Leti представил свою маршрутную карту развития полупроводниковых приборов до топологий 5 нм и менее (рис.6). В ней учтены наработки CEA-Leti по технологии FD-SOI и собственной технологии монолитной 3D интеграции Coolcube.
Вертикальные структуры. Если промышленности не удастся решить проблемы дальнейшего масштабирования, придется воспользоваться другими вариантами. Вместо традиционного масштабирования отрасль может пойти по пути использования вертикальной интеграции. Уже предлагается ряд 2,5D-, 3D-подходов. Некоторое время опробовались подходы 2,5D-этажирования кристаллов с использованием интерпозеров[4] и TSV[5]-подхода. Наряду с этим Intel развивал технологию встраиваемых многокристальных мостовых межсоединений (EMIB). В EMIB модуль может состоять из различных кристаллов. Подключение кристаллов друг к другу в модуле будет осуществляться тонкими кремниевыми проводами, расположенными на их границах.
Помимо этого существует много других подходов. Например, Leti работает над монолитной 3D-технологией, когда транзисторы этажируются один над другим последовательно. Межсоединение слоев осуществляется за счет тонких межслойных переходов. Проблема только в том, что все слои должны обрабатываться с минимальным тепловым воздействием. Находящаяся на стадии НИОКР монолитная 3D-интеграция – также перспективный подход. Предполагается, что она актуальна для гетерогенной интеграции различных функций – аналоговые функциональные блоки накладываются на цифровые с очень высокой плотностью межсоединений.
Leti и другие исследовательские учреждения изучают перспективы чиплетов – дискретных компонентов системы-на-кристалле. Они разработаны в качестве отдельных блоков для включения в многокристальный модуль, поэтому не требуют размещения на одном кристалле. Чиплеты обеспечивают значительную гибкость при выборе необходимой интеллектуальной собственности (СФ-блоков). То есть у разработчиков больше вариантов с функциональным разбиением.
Какие транзисторы и / или 2,5D-, 3D-технологии будут доминировать на уровне топологий 5 нм и менее, покажет время [3].
Во второй части статьи рассмотрим результаты поиска новых приборных структур и материалов, пригодных для 5 / 7-нм технологий, уделим внимание перспективной технологии магниторезистивной памяти, EUV-литографии с высокой числовой апертурой и новым материалам.
ЛИТЕРАТУРА
1. SEMI ISS2017 uncovers new growth, forecast upgrades. Solid State Technology. The Pulse, January 10. 2017.
2. McGrath D. No Sign of 450 mm on the Horizon // EE Times. 1/13/2017.
3. Happich J. Uncertainty Grows For 5 nm, 3 nm // EE Times. 12/7/2016.
4. Happich J. Imec Stacks Gate-all-Around Si Nanowires Vertically in CMOS MOSFETs // EE Times. 12/7/2016.
5. Happich J. Leti’s 5nm Node to Stack Si Nanowires // EE Times.12/7/2016.
6. Lammers D. MRAM Takes Center Stage at IEDM 2016 // Solid State Technology. The Pulse. December 14. 2016.
7. Korczynski E. High-NA EUV Lithography Investment // Solid State Technology. The Pulse. December 5. 2016.
8. Physicists decipher electronic properties of materials in work that may change transistors // Solid State Technology. Wafer News. December 05.2012.
Отзывы читателей
