Наноиндустрия #9/2018
Московская Юлия Марковна, Никифоров Александр Юрьевич, Бобровский Дмитрий Владимирович, Уланова Анастасия Владиславовна, Жуков А. А.
Экспериментальная оценка влияния параметров критических операций типового КМОП техпроцесса на дозовую стойкость интегральных микросхем
Проведена экспериментальная оценка влияния режимов формирования подзатворного окисла на дозовую стойкость КМОП микросхем, изготовленных по типовому маршруту с проектными нормами 1,5 мкм. Экспериментально установлено, что для толщин подзатворного диэлектрика порядка 300 Å дозовая стойкость КМОП ИС обеспечивается при температуре выращивания окисла в диапазоне 850−900 °C. УДК 621.382.002 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.246.250
Электроника НТБ #3/2017
Д.Ахметов, Е.Балашов, В.Калинин, А.Коротков, Д.Морозов, М.Пилипко, И.Пятак, И.Румянцев
Интегральные КМОП-схемы в системах радиочастотной идентификации: опыт разработки
В статье представлены результаты разработки интегральной КМОП-схемы считывателя системы радиочастотной идентификации для объектов транспортной инфраструктуры. DOI: 10.22184/1992-4178.2017.163.3.38.45 УДК 621.382 ВАК 05.27.00