Электроника НТБ - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1992-4178

Книги по электронике

Тег "euv lithography"

Электроника НТБ #4/2023
М. Макушин
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПРИБОРЫ: ПРОГНОЗЫ ПРОДАЖ И АСПЕКТЫ РАЗВИТИЯ

DOI: 10.22184/1992-4178.2023.225.4.58.68 Приводятся оценки и прогнозы развития мирового рынка полупроводниковых приборов на период 2020–2030 годов. Рассматриваются общие перспективы технологического развития: дальнейшее масштабирование ИС, использование новых материалов и гибридных методик соединения элементов ИС, создание более рентабельных методик формирования рисунка.

Электроника НТБ #5/2022
М. Макушин
РЫНОК ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ, ПРОБЛЕМЫ EUV-ЛИТОГРАФИИ И ПЕРСПЕКТИВНЫХ МЕТОДОВ КОРПУСИРОВАНИЯ

DOI: 10.22184/1992-4178.2022.216.5.30.40 Анализируются рынок технологического оборудования для изготовления ИС и перспективные направления развития полупроводникового оборудования. Движущие факторы развития рынка оборудования – расширение использования EUV-литографии и перспективных методов корпусирования.

Электроника НТБ #5/2020
М. Макушин, В. Мартынов
ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ: ПРОБЛЕМЫ РАЗВИТИЯ. Часть 2

DOI: 10.22184/1992-4178.2020.196.5.120.127 Рассматриваются некоторые аспекты развития технологий микроэлектроники: ALD- и ХОПФ процессы, ионная имплантация, EUV литография, совершенствование методик тестирования.

Электроника НТБ #8/2018
М. Макушин, В. Мартынов
Современные тенденции развития микроэлектроники. Часть 1

Рассматриваются вызовы, с которыми сталкивается современная микроэлектроника: корреляция развития современной электроники с состоянием мировой экономики, технология масштабирования не отвечает требованиям дальнейшего развития электроники, увеличение сложности ИС. DOI: 10.22184/1992-4178.2018.179.8.150.158 УДК 621.39 | ВАК 05.27.06