Электроника НТБ #1/2020
В. Емельянов
Повышение устойчивости к стресс-миграции пленочных структур на основе алюминия в микроэлектронике
Описан способ повышения качества тонких пленок на основе алюминия, составляющих токопроводящий рисунок субмикронных полупроводниковых приборов и микросхем. Для исключения или минимизации дефектов на слое сплава алюминия формируется пассивирующий слой нитрида титана, способствующий нивелированию остаточных напряжений в структуре и улавливанию мигрирующих атомов алюминия, что существенно снижает процессы стресс-миграции в системе. DOI: 10.22184/1992-4178.2020.192.1.152.159