Электроника НТБ #7/2024
В. Иванов
СПРЕЕВОЕ НАНЕСЕНИЕ ФОТОРЕЗИСТА ДЛЯ СОЗДАНИЯ РАВНОМЕРНОЙ ПЛЕНКИ В ПОЛОСТЯХ
DOI: 10.22184/1992-4178.2024.238.7.182.188 Исследовался метод получения покрытий с помощью системы спреевого нанесения, были оптимизированы параметры процессов, такие как скорость вращения столика, скорость перемещения форсунки, поток смеси, угол наклона форсунки и т.д.