Электроника НТБ - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1992-4178

Книги по электронике

Тег "методики формирования рисунка"

Электроника НТБ #8/2024
М. Макушин
EUV-ЛИТОГРАФИЯ: ЧТО ОЖИДАЕТСЯ В 2025 ГОДУ?

DOI: 10.22184/1992-4178.2024.239.8.112.119 В ближайшее десятилетие EUV-литография будет использоваться для формирования топологических элементов, измеряемых в нанометрах и ангстремах. Рассматриваются методики однократного и многократного формирования рисунка.