Электроника НТБ #5/2021
Дж. Фергусон, Д. Вертянов, К. Фелтон, И. Беляков, С. Евстафьев, В. Сидоренко, Н. Горшкова
ПРОЕКТИРОВАНИЕ КОРПУСОВ И МИКРОСБОРОК ПО ТЕХНОЛОГИИ FO WLP СРЕДСТВАМИ САПР MENTOR GRAPHICS. Часть 2
DOI: 10.22184/1992-4178.2021.206.5.126.134 Применение маршрута САПР Mentor Graphics дает разработчикам корпусов, микросборок FO WLP все необходимые функциональные возможности, инструменты проектирования и верификации для получения максимальной выгоды от новой технологии корпусирования.
Электроника НТБ #4/2021
Дж. Фергусон, Д. Вертянов, К. Фелтон, И. Беляков, С. Евстафьев, В. Сидоренко, Н. Горшкова
ПРОЕКТИРОВАНИЕ КОРПУСОВ И МИКРОСБОРОК ПО ТЕХНОЛОГИИ FO WLP СРЕДСТВАМИ САПР MENTOR GRAPHICS. Часть 1
DOI: 10.22184/1992-4178.2021.205.4.56.64 Применение маршрута САПР MENTOR GRAPHICS дает разработчикам корпусов, микросборок FO WLP все необходимые функциональные возможности, инструменты проектирования и верификации для получения максимальной выгоды от новой технологии корпусирования.
Электроника НТБ #6/2019
Н. Нагаев
Корпуса для микросборок компании АО «ЗПП»
DOI: 10.22184/1992-4178.2019.187.6.136.138 Рассмотрены корпуса для микросборок компании АО «ЗПП». Отмечено, что на сегодняшний день АО «ЗПП» уже разработало и производит несколько типоразмеров корпусов для микросборок и намерено продолжать развитие в данном направлении.
Наноиндустрия #9/2018
Герасименко Юлия Владимировна, Сергиенко Анатолий Иванович, Ермаков Александр Николаевич, Ермакова Александра Сергеевна, Вертянов Денис Васильевич
Новые конструкторско-технологические решения технохимических операций изготовления элементов МЭМС и микросборок
Современные микроэлектромеханические системы (МЭМС) представляют собой миниатюрные сложные устройства, выполненные по технологии объемной микромеханики. Каждый этап технохимической обработки в процессе изготовления МЭМС: очистка, отмывка, травление, осаждение металлических покрытий — предполагает наличие определенных требований к чистоте проводимых операций и к размерам объектов микромашин. Проведение операций технохимии на традиционном оборудовании групповой обработки имеет некоторые недостатки, к которым относят неравномерность обработки пластин из-за их взаимного близкого расположения, накопление загрязнений в рабочем растворе с возможным последующим загрязнением обрабатываемых пластин, снижение концентрации рабочего раствора при обработке серии пластин. Разработка российского оборудования индивидуальной обработки пластин и подложек для осуществления операций технохимической обработки при изготовлении МЭМС и микросборок является актуальной задачей, требующей новых конструкторских и технологических решений, отвечающих требованиям и особенностям технологического процесса изготовления МЭМС и оптимизированных с точки зрения энергопотребления, габаритов, расхода реактивов и т. п. УДК 66.06 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.532.537
Наноиндустрия #9/2018
Сидоренко Виталий Николаевич, Вертянов Денис Васильевич, Долговых Юрий Геннадьевич, Ковалев Анатолий Андреевич, Змеев Сергей Викторович, Тимошенков Сергей Петрович
Конструктивно-технологические особенности fl ip-chip монтажа кристаллов в производстве высокоинтегрированных 2,5D и 3D микросборок
В статье рассмотрены преимущества применения технологии flip-chip монтажа кристаллов при создании микросборок в 2,5D и 3D исполнении. Представлены конструктивно-технологические особенности и ограничения flip-chip монтажа кристаллов в производстве высокоинтегрированных микросборок. Приведены результаты оценки профиля структуры поверхности бескорпусной микросхемы с микробампами и профилей бампов после их установки на контактные площадки тестовых кристаллов. Представлены результаты исследования прочности на сдвиг бампов SAC305 от контактных площадок кристаллов с покрытием из Au и от контактных площадок кремниевых подложек с покрытием из ImmSn. УДК 621.3.049.76 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.203.210
Печатный монтаж #3/2016
О.Симонов
Технология плазменной очистки при микросборке
В статье рассмотрены особенности плазменных процессов, применяемых перед операциями микросборки, а также некоторые параметры оборудования для плазменной очистки, позволяющие предварительно определиться с типом установки применительно к условиям конкретного производства.
Наноиндустрия #5/2011
А.Сидоров
Нанесение фоторезиста при формировании межсоединений на кремнии
Создание многокристальных модулей и 3D-структур по технологии переходных отверстий для формирования межсоединений перспективно при производстве микросборок. Применение технологии позволяет выполнять сборку изделий на уровне пластин и кристаллов.