Электроника НТБ - научно-технический журнал - Материалы тега - моделирования процесса фотолитографии

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1992-4178

Книги по электронике

Тег "моделирования процесса фотолитографии"

Электроника НТБ #7/2015
В.Плебанович
БЕЗМАСКОВАЯ ЛИТОГРАФИЯ – ТРЕБОВАНИЕ СЕГОДНЯШНЕГО ДНЯ

Чтобы нивелировать затраты на фотошаблоны, которые могут быть в несколько раз дороже производства кристаллов, некоторые производители выпускающие малые партии продукции, предлагают так называемый multi-module project или multi-project, предусматривающий выполнение заказов многих клиентов на одной полупроводниковой пластине и тем самым распределение затрат на изготовление шаблонов между всеми заказчиками. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография (optical maskless lithography, OML).